RCA清洗机

RCA（Resist Cleaning and Stripping）清洗工艺是一种用于清洗集成电路（IC）和微电子器件的工艺。

RCA清洗机原理
通过化学反应和物理机械作用来去除芯片表面的污垢和残留物。

RCA清洗工艺的具体步骤如下： 
1.预清洗：使用有机溶剂（如丙酮、甲醇、乙酸乙酯等）清洗芯片表面的有机物和杂质。 
2.酸性清洗：使用酸性溶液（如盐酸、硫酸等）清洗芯片表面的金属氧化物和金属。 
3.碱性清洗：使用碱性溶液（如氢氧化钠、氢氧化钾等）清洗芯片表面的酸性残留物和有机物。
4.中和清洗：使用中和剂（如氢氧化铵、碳酸钠等）中和芯片表面的酸性和碱性残留物。 
5.水洗：使用纯水清洗芯片表面，去除中和剂和清洗剂残留。 
6.干燥：使用干燥器对芯片进行干燥，去除水分。